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真空镀膜机,真空镀膜机厂家介绍镀膜控制模式波长

作者:温州驰诚真空机械有限公司 来源:http://www.wzcczk.com 发布于:2015-07-31 16:10:03

真空镀膜机,真空镀膜机厂家介绍镀膜控制模式波长

  真空镀膜机,真空镀膜机厂家介绍我们所用的膜层材料为SiNO系材料,图1为镀SiN膜所得的实验结果。曲线1为镀膜前外延片的反射谱,曲线2和3 分别对应膜厚为95 nm和135 nm的情形,膜厚度用椭偏仪测出。从曲线1可知,片子的e-lh峰在840 nm,e-hh峰 在848 nm,模式波长的位置在832 nm。对于常通型调制器,模式波长的位置应在e ̄hh峰的长波长方向;而常关型 器件,模式波长的位置应在e-hh峰附近,而且顶部必须镀减反膜,否则器件会工作在饱和区,降低器件的调制特 性。由于模式波长位置不合适,先采用镀SiNO减反膜的方法来移动模式波长。
 真空镀膜机,真空镀膜机厂家介绍由曲线2膜厚95 nm的反射谱可知,模式波长发生了移动,但由于表面反射率降低,ASFP腔的谐振吸收作用和激 子吸收相比,作用比较弱,因而在曲线上看不到明显的模式波长位置。用椭偏仪测量可知,膜层折射率为1.8左右 ,由理论计算可知模式波长大约移动10 nm,在842 nm左右。镀膜后,e-hh峰处的反射率明显降低,此时虽然模式 波长没有在e-hh峰位置,但由于模式波长距激子峰比较近使得e-hh峰附近的反射率降低很多。
 真空镀膜机,真空镀膜机厂家介绍由曲线3膜厚为135 nm的反射谱可知,与镀膜前的模式波长相比,镀膜后模式波长反而减小了,从原来的832 nm 变到820 nm。膜层折射率为1.8,从以上的理论分析可知,当折射率为1.8,膜厚增加到135 nm时,模式波长会下 降约10 nm,曲线3应属于这种情况。
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