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真空镀膜设备实验分析与讨论

作者:温州驰诚真空机械有限公司 来源:http://www.wzcczk.com 发布于:2015-11-30 14:35:13

真空镀膜设备实验分析与讨论

1)蒸发过程中的真空条件 
真空容器内蒸汽分子的平均自由程大于蒸发源与基片的距离 (称蒸距)时, 就会获得充分的真空条件。为此, 增加残余气体的平均自由程, 借以减少蒸汽分子与残余气体分子的碰撞几率, 把真空室内抽成高真空是非常必要的。 
2)蒸发源选取原则 
①有良好的热稳定性,化学性质不活泼,达到蒸发温度时加热器本身的蒸汽压要足够底。 
②蒸发源的熔点要高于被蒸发物的蒸发温度。加热器要有足够大的热容量。 
③蒸发物质和蒸发源材料的互熔性必须很底,不易形成合金。 
④要求线圈状蒸发源所用材料能与蒸发材料有良好的浸润,有较大的表面张力。 
⑤对于不易制成丝状、或蒸发材料与丝状蒸发源的表面张力较小时,可采用舟状蒸发源。 
3)热蒸发镀膜主要物理过程  
①采用各种形式的热能转换方式,使镀膜材料蒸发或升华,成为具有一定能量(0.1~0.3eV)的气态粒子(原子、分子或原子团);  
②气态粒子通过基本上无碰撞的直线运动方式传输到基片; 
③粒子沉积在基片表面上并凝聚成薄膜。 
4)影响真空镀膜质量和厚度的因素: 
影响真空镀膜质量和厚度的因素有很多,主要有真空度、蒸发源的形状、基片的位置、蒸发源的温度等。固体物质在常温和常压下,蒸发量极低。真空度越高,蒸发源材料的分子越易于离开材料表面向四周散射。真空室内的分子越少,蒸发分子与气体分子碰撞的概率就越小,从而能无阻挡地直线达到基片的表面。 
实验总结 
本实验是有关真空镀膜技术的基础性实验,属于技术性实验,通过这个实验让我进一步熟悉真空获得和测量,学会使用蒸发镀膜技术,了解蒸发镀膜的原理及方法和了解真空镀膜技术。同时培养了我严谨的作风,提供了极好的学习与实践机会。
真空镀膜设备
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