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磁控溅射法定义是什么?

作者:温州驰诚真空机械有限公司  来源:http://www.wzcczk.com  更新时间:2023-5-15 9:54:16  点击次数:
磁控溅射法是在高真空充入适量的氩气,在阴极(柱状靶或平面靶)和阳极(镀膜室壁) 之间施加几百K 直流电压,在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电,使氩气发生电离。氩离子被阴极加速并轰击阴极靶表面,将靶材表面原子溅射出来沉积在基底表面上形成薄膜。 
磁控溅射法定义是什么?
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