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真空镀膜设备 离子镀的类型及特点

作者:温州驰诚真空机械有限公司  来源:http://www.wzcczk.com  更新时间:2023-6-12 11:11:00  点击次数:
离子镀是结合真空蒸镀和溅射镀两种技术而发展起来的沉积技术。在真空条件下,采用适当的方式使镀膜材料蒸发,利用气体放电使工作气体和被蒸发物质部分电离,在气体离子和被蒸发物质离子的轰击下,蒸发物质或其反应产物在基体上沉积成膜。离子镀的基本过程包括镀膜材料的蒸发、离子化、离子加速、离子轰击工件表面成膜。根据镀膜材料不同的蒸发方式和气体的离化方式,构成了不同类型的离子镀,下表是几种主要的离子镀。离子镀具有镀层与基体附着性能好、绕射性能好、可镀材质广、沉积速率快等优点。
表 离子镀的种类及其特点
种类 蒸发源 离化方法 工作环境 特点 用途
直流放电法  电阻  辉光放电dc:0.1kv~5kv  惰性气体1pa,0.25ma/cm2  结构简单,膜层结合力强,但镀件温升高,分散性差! 耐热,润滑等镀件
弧光放电法  电子束、灯丝  弧光放电dc:100v 高真空1.33x10-4pa  离化率高,易制成反应膜,可在高真空下成膜,利于提高质量  切削工具、金属装饰等镀件
空心阴极法  空心阴极  等离子体电子束dc:0v~200v 惰性气体或反应气体  离化率高,蒸发速度大,易获得高纯度膜层  装饰、耐磨等镀件
调频激励法  电阻、电子束  射频电场13.56mhzdc:0.1kv~5kv 惰性气体或反应气体  离化率高,膜层结合力强,镀件温升低,但分散性差  光学、半导体等镀件
电场蒸发法  电子束  二次电子dc:1kv~5kv 真空  不纯气体少,能形成较好的膜  电子元件
多阴极法    电阻、电子束 热电子dc:0v~5kv 惰性气体或反应气体 低速电子离化效果好  装饰、电子、精密机械等零件
聚焦离子束法 电阻 聚集离子束dc:0v~5kv 惰性气体  因离子聚束,膜层结合力强  电子元件
活性反应法 电子束 二次电子dc:200v 反应气体o2、n2、ch4、c2h4等  金属与反应气体组合能制备多种倾倒物膜层 电子、装饰、耐磨等镀件
真空镀膜设备 离子镀的类型及特点
关键词:溅射镀膜机 真空镀膜机 离子镀
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