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真空镀膜机成膜不均因素

作者:温州驰诚真空机械有限公司  来源:http://www.wzcczk.com  更新时间:2015-10-12 15:54:34  点击次数:
随着镀膜技术的发展,各类真空镀膜机也逐渐出现,不管是哪种真空镀膜机,薄膜的均匀性都会受到一些因素的影响。现在,我们就以磁溅射真空镀膜机来分析成膜不均匀的因素。
镀膜机抽气不均会影响镀膜均匀性。基片干净很重要。真空镀膜前要将基片表面认真清洁干净,达到工件去油、去污和脱水的目的。基板表面污染从零件在加工,运输等过程中附着的各种各样的灰尘、油脂、抛光膏、汗渍等,在潮湿环境下,基片表面易氧化,形成氧化膜吸附气体。对于这些污物,都能用去油或化学方法清洗干净。干净的基片不要直接放在外面,需要用封闭容器存放,减少沾污。镀膜室内也是会积灰的,所以要清洗镀膜室内,烘烤除气,并将机器放置在干净的环境里。注意扩散泵返油。镀膜的原材料有很多,如树脂、硅酮、硅盐酸、聚合物等,辅料、配方的比列有所不同,薄膜也不同。
以上就是真空镀膜机成膜不均匀的因素。
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