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真空镀膜设备离子镀膜上的创新方法

作者: 来源: 发布于:2019-1-2 8:43:19
真空镀膜设备多弧离子镀膜上的创新方法,所谓多弧离子镀膜就是置待镀材料和被镀基板于室内,真空镀膜机多弧离子镀膜采用一定方法加热待镀材料,使之蒸发或升华,并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。

多弧离子镀膜的方法,在条件下成膜有很多优点,可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞,减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等),以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量,从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。

真空镀膜设备多弧离子镀膜工艺不仅避免了传统表面处理的不足,且各项技术指标都优于传统工艺,在五金、机械、化工、模具、电子、仪器等领域有广泛应用。

催化液和传统处理工艺相比,在技术上有哪些创新?
1、多弧离子镀膜不用电、降低了成本、成本仅为多弧离子镀膜镍的二分之一,真空镀膜机多弧离子镀膜铬的三分之一,不锈钢的四分之一,可反复利用,大大降低了成本。
2、多弧离子镀膜易操作、工艺简单、把金属基件浸入兑好的液体中“一泡即成”,需要再加工时不经任何处理。


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